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P760/01_2760nm單模垂直腔面發(fā)射激光器
VCSEL-20-M激光控制驅(qū)動器
ZNSP25.4-1IR拋光硫化鋅(ZnS)多光譜(透明)窗片 0.37-13.5um 25.4X1.0mm（晶體/棱鏡
CO2激光光譜分析儀
Frequad-W-CW DUV 單頻連續(xù)激光器 213nm 10mW Frequad-W
HB-C0BFAS0832x4 QPSK C波段相干混頻器（信號解調(diào)/鎖相放大器等）
ER40-6/125截止波長1300nm 高摻雜EDF摻鉺光纖
THL-ZnTe20-500RZNTE（碲化鋅）太赫茲晶體
SNA-4-FC-UPC日本精工法蘭FC/UPC（連接器/光纖束/光纜）
IRV2000-1X1倍紅外觀察鏡 350-2000nm,分辨率 60lp/mm
1030nm超短脈沖種子激光器PS-PSL-1030
NANOFIBER-400-9-SA干涉型單模微納光纖傳感器 1270-2000nm
高能激光光譜光束組合的光柵 （色散勻化片）
GD5210Y-2-2-TO46905nm 硅雪崩光電二極管 400-1100nm
FLEX-BF裸光纖研磨機(jī)
S+C+L波段 160nm可調(diào)諧帶通濾波器
更新時間：2025-03-04
點(diǎn)擊次數(shù)：130
2025慕尼黑上海光博會
2025年3月11-13日
上海新國際博覽中心
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筱曉光子
展位號:N5.5367
關(guān)于我們
筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司是一家專業(yè)的光學(xué)服務(wù)公司，業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā)，建有先進(jìn)的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室，為國內(nèi)外客戶提供專業(yè)技術(shù)支持服務(wù)。公司主要經(jīng)營光學(xué)元件、激光光學(xué)測試設(shè)備、以及光學(xué)系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)。依托專業(yè)、強(qiáng)大的技術(shù)支持，以及良好的商務(wù)支持團(tuán)隊(duì)，筱曉的業(yè)務(wù)范圍正在逐年增長。目前業(yè)務(wù)覆蓋國內(nèi)外各著名高校、科研機(jī)構(gòu)及相關(guān)領(lǐng)域等諸多企事業(yè)單位。
半導(dǎo)體綜合分析實(shí)驗(yàn)室
半導(dǎo)體激光器光譜分析，功率測試，光束質(zhì)量測試，線寬測試，各種光無源器件的測試，光纖放大器等等近紅外產(chǎn)品的測試。目前我們在半導(dǎo)體測試，TDLAS激光法氣體分析檢測，CRDS腔衰蕩系統(tǒng),DTS高溫傳感以及DVS等項(xiàng)目研究開發(fā)領(lǐng)域有著深厚的積累，能夠?yàn)榭蛻籼峁└泳珳?zhǔn)的器件方案支持。
未來前沿光學(xué)綜合實(shí)驗(yàn)室
負(fù)責(zé)公司未來前沿科學(xué)的相關(guān)應(yīng)用支持。其中包括：自適應(yīng)光學(xué)，量子計(jì)算，微波光子，太赫茲，微納光學(xué)等技術(shù)學(xué)習(xí)與推廣應(yīng)用。
自適應(yīng)光學(xué)：波前分析儀，可變形鏡，近紅外CCD相機(jī)
微波光子：是德科技20G矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀，25G信號發(fā)生器，20G高速調(diào)制器，22G光電接收器，光譜儀AQ6375B、771B-MIR波長計(jì)等測量設(shè)備
太赫茲：300G太赫茲發(fā)生器，太赫茲功率計(jì)，太赫茲時域光譜儀分析儀
微納光學(xué)：微納光纖制作平臺，光學(xué)顯微鏡，2-4.5um超連續(xù)譜光源
量子計(jì)算：在建中
明星產(chǎn)品預(yù)告
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DAS演示系統(tǒng)
DAS光纖傳感系統(tǒng)利用光纖作為聲壓傳感器的檢測元件，通過光纖中內(nèi)部光的運(yùn)動對光纖表面的壓力變化的反射，實(shí)現(xiàn)聲波信號的測量。當(dāng)聲波作用于光纖時，會引起光纖表面微小的形變或壓力變化，這種變化會改變光纖中光的傳播特性，進(jìn)而被系統(tǒng)捕捉并轉(zhuǎn)化為電信號進(jìn)行處理和分析。
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CRDS演示系統(tǒng)
光腔衰蕩光譜技術(shù)（CRDS）是上個世紀(jì)年代發(fā)明的一種氣體吸收光譜檢測技術(shù)，通過一對反射率超過99.99%的高反鏡組成一個光諧振腔，極大地提升了光在腔內(nèi)的反射次數(shù)，從而增大了吸收光程，根據(jù)光在腔內(nèi)的衰蕩時間來檢測腔內(nèi)的待測氣體濃度，很容易就能達(dá)到1ppm以內(nèi)的精確度。
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TDLAS演示系統(tǒng)
TDLAS技術(shù)的理論基礎(chǔ)是比爾-朗伯定律，一束激光穿過被測氣體時，當(dāng)激光器的波長在被測氣體某個吸收譜線位置時，氣體分子會吸收光子而躍遷到高能級，表現(xiàn)為氣體吸收了激光，使得激光在功率上有所衰減。TDLAS技術(shù)利用了可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器的窄線寬和輸出波長隨電流和溫度變化的特性，對氣體分子某幾個吸收峰進(jìn)行掃描。該技術(shù)中采用的半導(dǎo)體激光光源，其譜寬遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬，因此TDLAS技術(shù)是一種高分辨率吸收光譜技術(shù)。
當(dāng)前位置：
